QDI 5月

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歯槽頂アプローチによるサイナスフロアエレベーション成功の法則特別連載歯槽頂アプローチによるサイナスフロアエレベーション成功の法則特別連載図A-① 0.1cc填塞後、CBCT撮影を行いH、BP、MDを測定してこの表に数値を照らし合わせる。TYPEⅠ、TYPEⅡ、TYPEⅢに分類し、追加填塞の可否を判断する。図A-② Part1の測定結果より、TypeⅠは45/61症例、TypeⅡは8/61症例、TypeⅢは8/61症例であった。8765432100123456789101112(mm)(mm)BPH8/6145/618/618/6145/618/61TypeⅢTypeⅢTypeⅡ TypeⅡ TypeⅠTypeⅠ8765432100123456789101112(mm)(mm)BP・MDHTypeⅢTypeⅢTypeⅡ TypeⅠTypeⅡ TypeⅠH/BP 0.8以上(MD)H/BP 0.4未満(MD)H/BP 0.4以上(MD)0.8未満Cross Sectional像Sagittal像Type状況対処法0.1cc填塞時のCBCT画像H/BPH/MD垂直的挙上範囲(H)の目安0.4以上0.8未満0.8以上0.4未満填塞を続けると洞粘膜を損傷するため歯槽頂からの追加填塞は行わない。 ・インプラントを同時埋入する場合は短く径の大きいインプラントに変更する。(上顎洞内に出すのは1スレッド内に留める)・さらに挙上が必要な場合⇒側方アプローチ法に変更する⇒段階法に変更する歯槽頂からの手術は中止する⇒側方アプローチ法に変更する⇒洞粘膜の治癒後に再手術する残存洞底骨をオステオトームで再度若木骨折させる。またはピエゾ骨切削器具で残存骨片を除去し追加填塞を行う。骨補填材料の填塞は0.2cc、0.3ccまで可能である。BPHHBPMDMDHBPMDHBPMD洞粘膜の損傷洞粘膜の伸展洞粘膜の挙上が少ない理想的な挙上TypeⅠTypeⅡTypeⅢTypeⅣ血管2.0mm以上4.5mm未満2.0mm未満測定不可骨補填材料が上顎洞内に向かわずインプラント形成窩に留まるか周囲の海綿骨内に填塞されている。骨補填材料の填塞圧で洞粘膜が剥離され洞底形態と対称な半円形をしている。インプラント形成窩上の洞粘膜の緊張が強いため、洞粘膜の垂直的な挙上よりも水平的な剥離が進む。インプラント形成窩周囲の洞粘膜が剥離されず、洞粘膜の伸展が起き垂直的にのみ挙上されている。4.5mm以上※頬舌的に洞底幅が狭いものは除く洞粘膜を損傷し骨補填材料が上顎洞内に散乱している。測定不可↓洞粘膜の連続性が途切れる挙上は約3mmに留める。追加填塞の可否a.骨折範囲が狭いb.洞底が凸面表1 骨補填材料0.1cc填塞時の上顎洞粘膜挙上形態の分類と追加填塞の可否追加填塞可否の指標(園田・原田の分類)0.1cc填塞時のH/BPの分布66Quintessence DENTAL Implantology─410

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