CHAPTER３ ジルコニア補綴物とチタンベースのセメンテーション 本項では，ジルコニア補綴物とTiベースのセメンテーションの手順（①〜⑩）について順を追って示す．2.ジルコニア補綴物とTiベースのセメンテーションの手順図2 Tiベースに２気圧でアルミナサンドブラスト処理を行う．サンドブラスト処理には３０〜５０㎛のアルミナ粒子を用いる．図３ デジタルトルクドライバーを使用し，メーカー規定のトルク値を計測してインデックス模型上にTiベースを装着．図４a〜d Tiベースをアルミナサンドブラスト処理した後，スチーマーで洗浄，ボンドマーライトレス（トクヤマデンタル）のA液とB液を１：１で混和してTiベースとジルコニアフレーム内面に塗布する．abcd12345629
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