<font color='green'><b>JMM COLLOQUIUM in 2010</b></font>

　さる7月4日（日）、パシフィコ横浜会議センター（神奈川県）において、「JMM COLLOQUIUM in 2010」（日本メディカルマテリアル株式会社主催、興松英昭代表取締役社長）が「The Future is Next to You―インプラント治療の未来をひらく、最新テクニックと次世代技術―」をテーマに、約659名（歯科医師406名、歯科衛生士78名、歯科技工士96名、関係者79名）の参加者を集め、盛大に開催された。　第１部の一般講演では、渡邉信幸氏（東京都開業）、吉見哲朗氏（兵庫県開業）、谷口昭博氏（北海道開業）、LI Ming-Ko氏（台湾開業）、LEE Chang-Geun氏（韓国開業）が、それぞれ講演を行った。　第2部の一般講演では、土肥博幸氏（長崎県開業）、鈴木龍氏（静岡県開業）、島田昌明氏（山口県開業）、水上哲也氏（福岡県開業）が、それぞれ講演を行った。　最後の特別講演では、小川隆広氏（米国UCLA歯学部ワイントロープセンター准教授）が、「オッセオインテグレーション新時代―アルカリ処理が創り出すナノ表面の高い骨結合能、そして光機能化技術との相乗効果―」と題し、アルカリ熱処理によって創り出された新たなチタン表面と、光機能による脱・チタンエイジングで可能にしたスーパーオッセオインテグレーションの効能について熱弁をふるった。ディスカッションでは、会場から多くの質問が寄せられ、アルカリ熱処理表面、光機能化技術、スーパーオッセオインテグレーションへの関心の高さがうかがわれた。　なお同日、歯科衛生士セッション、歯科技工士セッションも併催され、好評を博した。